Ryor Acnestop Mask for blackheads 100 ml
| Determination: | Problematická |
Maska s obsahem komplexu ovocných kyselin účinně redukuje výskyt černých teček a zároveň stahuje Póry. Díky obsahu Kyseliny Hyaluronové je pleť hydratovaná.
- s komplexem ovocných kyselin
- redukuje černé tečky a stahuje Póry
- s Kyselinou Hyaluronovou
Aplikujte lokálně a cíleně na problematické partie, nechte působit 5-10 minut, následně zbytky masky smyjte vodou nebo pleťovým tonikem dle typu pleti. Během aplikace se může projevit lehké pálení, které rychle odezní. Vzhledem k odstranění svrchní vrstvy pokožky je nutné alespoň 5 dní po aplikaci používat denní krém s UV ochrannou (např. Duo-aktivní krém SPF 15).
Aqua, Glycerin, Hydrogenated Polyisobutene, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Sodium Lactate, Glycolic Acid, Sucrose, Urea, Sodium Citrate, Malic acid, Tartaric Acid, Sodium Hyaluronate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin.
Aplikujte max. 1x týdně. Maska není vhodná pro velmi citlivé typy pleti. V kosmetických salonech je vhodná aplikace před hlubokým čištěním pleti.
This item has not been discussed yet. If you want to be first, click on the button Add a contribution
| Determination: | Problematická |
Maska s obsahem komplexu ovocných kyselin účinně redukuje výskyt černých teček a zároveň stahuje Póry. Díky obsahu Kyseliny Hyaluronové je pleť hydratovaná.
- s komplexem ovocných kyselin
- redukuje černé tečky a stahuje Póry
- s Kyselinou Hyaluronovou
Aplikujte lokálně a cíleně na problematické partie, nechte působit 5-10 minut, následně zbytky masky smyjte vodou nebo pleťovým tonikem dle typu pleti. Během aplikace se může projevit lehké pálení, které rychle odezní. Vzhledem k odstranění svrchní vrstvy pokožky je nutné alespoň 5 dní po aplikaci používat denní krém s UV ochrannou (např. Duo-aktivní krém SPF 15).
Aqua, Glycerin, Hydrogenated Polyisobutene, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Sodium Lactate, Glycolic Acid, Sucrose, Urea, Sodium Citrate, Malic acid, Tartaric Acid, Sodium Hyaluronate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin.
Aplikujte max. 1x týdně. Maska není vhodná pro velmi citlivé typy pleti. V kosmetických salonech je vhodná aplikace před hlubokým čištěním pleti.
